真空镀膜机在塑料制品应用极其广泛，塑料制品具备易成型，成本比较低，质量轻，不腐蚀等等特点，塑料制品应用广泛，但因为缺点制约了扩大应用，例如不美观、容易老化、机械性能差等等的问题。通过真空镀膜技术的应用，使得塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，恰好。真空镀膜机应用的优点主要表现在：1、容易清洗，不吸尘。2、使得塑料的表面有导电性。3、改善美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；4、减少吸水率，镀膜的次数越多，针孔就越少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性。5、改善表面硬度：之前的塑胶表面比金属还软，容易受到损害，通过真空镀膜，塑胶的硬度及耐磨性大大增加。6、提高耐候性，通常塑料在室外的老化非常快，主要的原因就是紫外线照射所导致，而镀铝后，铝对紫外线反射最强，所以耐候性大大提高

1.在装饰品方面随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。2.在刀具、模具等金属切削加工工具方面在生活中，我们会看到金黄色的、钴铜色的、黑色的等七杂八色的钻头、铣刀、模具等，这些就是经过镀膜技术加工后的涂层工具。（1）金黄色的，是在刀具上涂镀了TiN、ZrN涂层，TiN是第一代应用广泛的硬质层材料。（2）黑色的，是在切削工具上涂了TiC、CrN涂层。（3）钴铜色的，是在刀具上镀涂了TiALN涂层。3.在建筑玻璃和汽车玻璃上建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量，这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射，普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外，但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。随着经济的发展，普通玻璃已越来越不能满足人们的要求，而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和最大限度阻止室内热量外流的要求。在玻璃上，镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃，这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。4.在平板显示器中所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且，几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说，没有薄膜技术，就没有平板显示器件。

电浆技术在表面技术上的应用有那些?(1)溅浆沉积：溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材，使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜，溅射离子的起始动能约在100eV。常用的电浆气体为氩气，质量适当而且没有化学反应。(2)电浆辅助化沉积：气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行，如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。(3)电浆聚合：聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中，然后涂布于基板上。电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆，经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上，由于基材受到电浆的撞击，其附着性也很强。(4)电浆蚀刻：湿式碱性蚀刻，这是最简单而且便宜的方法，它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性，而且会产生下蚀的问题。(5)电浆喷覆：在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆，以防止高温腐蚀的发生。四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为：(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点：(1)电阻加热：这是一种最简单的加热方法，设备便宜、操作容易是其优点。(2)感应加热：加热效率佳，升温快速，并可加热大容量。(3)电子束加热：这种加热方法是把数千eV之高能量电子，经磁场聚焦，直接撞击蒸发物加热，温度可以高达30000C。而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。(4)雷射加热：激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上，产生局部瞬间高温使其逃离。最早使用的是脉冲红宝雷射，而后发展出紫外线准分子雷射。紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高，因此准分子雷射的功率密度甚高，用以加热蒸镀的功能和电子束类似。常被用来披覆成份复杂的化合物，镀膜的品质甚佳.它和电子束加热或溅射的过程有基本上的差异，准分子雷射脱离的是微细的颗粒，后者则是以分子形式脱离。

真空镀膜-基础的真空镀膜知识　真空镀膜是由专用真空镀膜机完成的,其工作流程及原理为:基片通过镀膜机的机械手的搬运,进入到镀膜机的真空腔体里,经过高压电离的氩离子在强电场及强磁场的作用下,产生高速运动,轰击靶材表面,激发出的金属离子附着在基片表面,形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位（Pa）3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa4.压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h5.真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S）:当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上指定位置测得的平衡压力之比。6.极限真空度：（单位：Pa):在规定条件工作，在不引入气体正常工作的情况下，趋向平稳的最低压强

真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题1、镀铝时薄膜呈现孔洞原因：①蒸发舟内铝料太满。解决方法：下降送铝速度;前进蒸发舟电流。②真空室内蒸发舟之间呈现短路。解决方法：打扫短路。③真空室内杂质飞溅2、镀铝时薄膜呈现拉伸现象原因：①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力操控系统，恰当减少张力。②冷却系统作业反常。解决方法：查看冷却系统，并打扫毛病。3、薄膜外表呈现褐色条纹原因：①真空度低解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空系统;下降环境湿度。②薄膜开释气体。解决方法：薄膜预单调;延伸抽真空时刻。③喷铝过多。解决方法：前进车速;下降蒸发舟电流;下降送铝速度。④蒸发舟内有杂质。解决方法：清洗蒸发舟及热屏蔽板。⑤蒸发舟老化。解决方法：替换蒸发舟。

一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片（光盘）上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。真空镀膜在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。蒸发镀膜　　通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之一。蒸发镀膜设备结构如图1。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。

我国是一个电镀大国，真空电镀行业作为我国重要的加工行业之一，对经济社会及整个工业体系的快速发展起着非常关键的作用。我国电镀行业以强政策、低能耗、低污染、低排放为基础的绿色经济模式正宣告一个全新时代的到来，具备此战略眼光，而且拥有绿色技术储备的国家或企业，即将在新一轮角逐中赢得先机，电镀行业将迎来高速发展期。　　真空电镀行业的发展，目前还面临着四个方面的发展瓶颈：一、企业环保意识不强，资源利用率低；二、企业规模小、专业化程度低，特别是乡镇电镀企业的迅速发展，给污染控制欲环境管理带来了很多的困难，电度污染问题日趋严重，须引入科学管理体系，从根本上解决电镀行业高污染、高能耗的弊端，推行绿色管理是电镀行业未来发展的必由之路；三、生产工艺落后，设备简单，整体来看，真空电镀企业仍然没有摆脱粗放型的经营，工艺技术落后，自动化程度低，缺乏市场竞争优势。四、管理水平低，经济效益较差，绝大部分电镀企业仍沿袭粗放型经营管理模式，适应市场变化能力差。除部分合资企业和出口企业外，大部分企业没有健全的工业管理体系，多数企业缺乏镀液分析和镀层检测仪器和技术力量。　我国作为电镀大国，各种先进技术都有体现。真空电镀行业有着广阔的发展前景。未来我国电镀行业将向以下四个方向发展：一、传统装饰性电镀将被喷涂、物理气相沉积等取代，功能性电镀产品需求则有上升的趋势；二、某些污染严重的电镀工艺将被清洁的电镀工业所取代；三、部分性能好、无污染的表面工程的高新技术将进入我国市场。四、随着汽车、电子、家用电器、航空、航天工业、建筑工业及相应的装饰工业的发展以及人们对美化生活需求的不断提高,对真空电镀产品的装饰性和抗蚀性的需求将明显增加。

​自50年代以来，光学薄膜主要在镀膜工艺和计算机辅助设计两个方面发展迅速。在镀膜方面，研究和应用了一系列离子基新技术。1953年，德国的Auwarter申请了用反应蒸发镀光学薄膜的专利，并提出用离子化的气体增加化学反应性的建议。1964年，Mattox在前人研究工作的基础上推出离子镀系统。那时的离子系统在10Pa压力和2KV的放电电压下工作，用于在金属上镀耐磨和装饰等用途的镀层，不适合镀光学薄膜。后来，研究采用了高频离子镀在玻璃等绝缘材料上淀积光学薄膜。70年代以来，研究和应用了离子辅助淀积、反应离子镀和等离子化学气相等一系列新技术。它们由于使用了带能离子，而提供了充分的活化能，增加了表面的反应速度。提高了吸附原子的迁移性，避免形成柱状显微结构，从而不同程度地改善了光学薄膜的性能，是光学薄膜制造工艺的研究和发展方向。

当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0．2%，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。

真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题　1、镀铝时薄膜呈现孔洞　　原因：　　①蒸发舟内铝料太满。解决方法：下降送铝速度;前进蒸发舟电流。　　②真空室内蒸发舟之间呈现短路。解决方法：打扫短路。　　③真空室内杂质飞溅　2、镀铝时薄膜呈现拉伸现象　　原因：　　①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力操控系统，恰当减少张力。　　②冷却系统作业反常。解决方法：查看冷却系统，并打扫毛病。　　3、薄膜外表呈现褐色条纹　　原因：　　①真空度低解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空系统;下降环境湿度。　　②薄膜开释气体。解决方法：薄膜预单调;延伸抽真空时刻。　　③喷铝过多。解决方法：前进车速;下降蒸发舟电流;下降送铝速度。　　④蒸发舟内有杂质。解决方法：清洗蒸发舟及热屏蔽板。　　⑤蒸发舟老化。解决方法：替换蒸发舟。