电浆技术在表面技术上的应用有那些?(1)溅浆沉积：溅镀是利用高速的离子撞击固体靶材，使表面分子溅离并射到基材镀成一层薄膜，溅射离子的起始动能约在100eV。常用的电浆气体为氩气，质量适当而且没有化学反应。(2)电浆辅助化沉积：气相化学沉积的化学反应是在高温基材上进行，如此才能使气体前置物获得足够的能量反应。(3)电浆聚合：聚合物或塑料薄膜最简单的披覆技术就是将其溶剂中，然后涂布于基板上。电浆聚合涂布法系将分子单体激发成电浆，经化学反应后形成一致密的聚合体并披覆在基板上，由于基材受到电浆的撞击，其附着性也很强。(4)电浆蚀刻：湿式碱性蚀刻，这是最简单而且便宜的方法，它的缺点是碱性蚀刻具晶面方向性，而且会产生下蚀的问题。(5)电浆喷覆：在高温下运转的金属组件须要有陶瓷物披覆，以防止高温腐蚀的发生。四、蒸镀的加热方式包括那几种?各具有何特点?加热方式分为：(1)电阻加热(2)感应加热(3)电子束加热(4)雷射加热(5)电弧加热各具有的特点：(1)电阻加热：这是一种最简单的加热方法，设备便宜、操作容易是其优点。(2)感应加热：加热效率佳，升温快速，并可加热大容量。(3)电子束加热：这种加热方法是把数千eV之高能量电子，经磁场聚焦，直接撞击蒸发物加热，温度可以高达30000C。而它的电子的来源有二：高温金属产生的热电子，另一种电子的来源为中空阴极放电。(4)雷射加热：激光束可经由光学聚焦在蒸镀源上，产生局部瞬间高温使其逃离。最早使用的是脉冲红宝雷射，而后发展出紫外线准分子雷射。紫外线的优点是每一光子的能量远比红外线高，因此准分子雷射的功率密度甚高，用以加热蒸镀的功能和电子束类似。常被用来披覆成份复杂的化合物，镀膜的品质甚佳.它和电子束加热或溅射的过程有基本上的差异，准分子雷射脱离的是微细的颗粒，后者则是以分子形式脱离。

真空镀膜-基础的真空镀膜知识　真空镀膜是由专用真空镀膜机完成的,其工作流程及原理为:基片通过镀膜机的机械手的搬运,进入到镀膜机的真空腔体里,经过高压电离的氩离子在强电场及强磁场的作用下,产生高速运动,轰击靶材表面,激发出的金属离子附着在基片表面,形成一层反射膜。基础的真空镀膜知识：1.真空:用真空泵抽掉容器中的气体,使空间内低于一个大气压的气体状态，也就是该空间的气体分子密度低于该地区大气压的气体分子密度。2.真空中残存气体的稀薄程度,就是真空程度的高低,即真空度。通常用压力表示单位（Pa）3.1Pa就是1m2面积上作用1N的压力。1大气压=1.03×105Pa4.压升率：单位时间内，真空度降低的速率。单位：Pa/h5.真空泵的抽气简称抽速）（单位：L/S）:当泵装有标准试验罩并按规定条件工作时，从试验罩流过的气体流量与在试验罩上指定位置测得的平衡压力之比。6.极限真空度：（单位：Pa):在规定条件工作，在不引入气体正常工作的情况下，趋向平稳的最低压强

真空镀膜-真空镀膜设备镀铝工艺常见问题1、镀铝时薄膜呈现孔洞原因：①蒸发舟内铝料太满。解决方法：下降送铝速度;前进蒸发舟电流。②真空室内蒸发舟之间呈现短路。解决方法：打扫短路。③真空室内杂质飞溅2、镀铝时薄膜呈现拉伸现象原因：①基材张力太大。解决方法：调节放卷、卷取张力操控系统，恰当减少张力。②冷却系统作业反常。解决方法：查看冷却系统，并打扫毛病。3、薄膜外表呈现褐色条纹原因：①真空度低解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空系统;下降环境湿度。②薄膜开释气体。解决方法：薄膜预单调;延伸抽真空时刻。③喷铝过多。解决方法：前进车速;下降蒸发舟电流;下降送铝速度。④蒸发舟内有杂质。解决方法：清洗蒸发舟及热屏蔽板。⑤蒸发舟老化。解决方法：替换蒸发舟。

当光线进入不同传递物质时（如由空气进入玻璃），大约有5%会被反射掉，在光学瞄准镜中有许多透镜和折射镜，整个加起来可以让入射光线损失达30%至40%。现代光学透镜通常都镀有单层或多层氟化镁的增透膜，单层增透膜可使反射减少至1.5%，多层增透膜则可让反射降低至0.25%，所以整个瞄准镜如果加以适当镀膜，光线透穿率可达95%。镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至最低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层镀膜则可对多种色光起作用。多层镀膜通常采用不同的材料重复地在透镜表面镀上不同厚度的膜层。多层镀膜可大大提高镜头的透光率，例如，未经镀膜的透镜每个表面的反射率为5%，单层镀膜后降至2%，而多层镀膜可降至0．2%，这样，可大大减少镜头各透镜间的漫反射，从而提高影像的反差和明锐度。

PVD真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺;对操作者无伤害;膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜(包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术)、溅射镀膜(包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术)，这些方法统称物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition)，简称为PVD。　　与之对应的化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition)简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”(ionplating)离子镀膜，是因为在PVD工艺技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。　　真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀.蒸发镀膜通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。　　深圳市永诚真空技术有限公司是专门从事PVD,镀钛,真空镀膜,真空电镀,离子镀膜,真空镀技术研发和生产应用的高新技术企业，公司凭着良好的基础，丰富的真空镀膜经验及先进的生产设备，热心服务于社会各界客户。